Ⅰ 工业硅的冶炼工艺和技术
石英(沙子)与碳在电弧炉中冶炼提纯到98%并生成工业硅，其化学反应SiO2+2C=Si+2CO
为了满足半导体级高纯度的需要，必须进一步提纯。把工业硅粉碎并用无水氯化氢(HCl)与之反应在一个流化床反应器中，生成三氯氢硅(SiHCl3)。
其化学反应Si+3HCl=SiHCl3+H2
在此基础上还需要进一步提纯，经过一系列化学分离提纯工艺除去一些电活性杂质，碳和过渡元素杂质，才能使SiHCl3 的纯度达到半导体级的标准要求。
多晶硅采用高温还原工艺，以高纯的SiHCl3在H2气氛中还原沉积而生成。其化学反应SiHCl3+H2=Si+3HCl。经过如此提纯工艺技术，可生产出半导体级高纯硅SiHCl3、SiH2Cl2及光纤级高纯硅SiCl4。
Ⅱ 工业硅冶炼工艺流程
1、首先将合格的二氧化硅用水清洗，去除泥土等杂质，用粉碎机粉碎至20-100mm。2、然后过筛，再用水洗去碎石李悔和石粉。3、称重后与石油焦按一定比例混合，混合后的合格物料送至熔炼炉熔炼除杂。4、硅液形成明扰历后，通入空气增加透气性，进一步去除杂质。一部分硅液冷却后直接生产产品，一部分硅液送至专用硅包中进行氧气导入精炼。5、将精炼后的硅液送入精炼炉进行进一步精炼、氧气加压分离和除杂，冷却后生产出激搜4氮高纯工业硅产品，经过精选、清洗，最后碎成锭、包装入库。