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Ⅱ 工業硅的冶煉工藝和技術
石英(沙子)與碳在電弧爐中冶煉提純到98%並生成工業硅，其化學反應SiO2+2C=Si+2CO
為了滿足半導體級高純度的需要，必須進一步提純。把工業硅粉碎並用無水氯化氫(HCl)與之反應在一個流化床反應器中，生成三氯氫硅(SiHCl3)。
其化學反應Si+3HCl=SiHCl3+H2
在此基礎上還需要進一步提純，經過一系列化學分離提純工藝除去一些電活性雜質，碳和過渡元素雜質，才能使SiHCl3 的純度達到半導體級的標准要求。
多晶硅採用高溫還原工藝，以高純的SiHCl3在H2氣氛中還原沉積而生成。其化學反應SiHCl3+H2=Si+3HCl。經過如此提純工藝技術，可生產出半導體級高純硅SiHCl3、SiH2Cl2及光纖級高純硅SiCl4。
Ⅲ 工業制硅用什麼方法！
高純硅的製取：SiO2+2CSi+2CO↑（制粗硅）Si (粗硅)+2Cl2SiCl4（分餾提純SiCl4）SiCl4+2H2Si+4HCl
Ⅳ 工業製取單質硅的方法
工業上生產硅是在電弧爐中還原硅石（二氧化硅含量大於99%）。使用的還原劑為石油焦和木炭等。使用直流電弧爐時，能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低（0.3%～0.8%），採用質量高的硅石（二氧化硅大於99%），可直接煉出製造硅鋼片用的高質量硅。
高純的半導體硅可在1，200℃的熱硅棒上用氫氣還原高純的三氯氫硅製得。超純的單晶硅可通過直拉法或區域熔煉法等制備。實驗室里可用鎂粉在赤熱下還原粉狀二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化鎂和鎂粉，再用氫氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得單質硅。
(4)工業制硅碳需要多少擴展閱讀
硅的應用領域：
1、高純的單晶硅是重要的半導體材料。在單晶硅中摻入微量的第IIIA族元素，形成p型硅半導體；摻入微量的第VA族元素，形成n型半導體。
2、金屬陶瓷、宇宙航行的重要材料。將陶瓷和金屬混合燒結，製成金屬陶瓷復合材料，它耐高溫，富韌性，可以切割，既繼承了金屬和陶瓷的各自的優點，又彌補了兩者的先天缺陷。
3、光導纖維通信，最新的現代通信手段。用純二氧化硅可以拉制出高透明度的玻璃纖維。激光可在玻璃纖維的通路里，發生無數次全反射而向前傳輸，代替了笨重的電纜。
Ⅳ 多少石英石可以煉一噸工業硅
照數據分析是2.4到2.5之間，實際工業達不到要求，2.7以上！還要一定量的精洗煤，保證碳元素，一定量的木材保持透氣性，量多少看情況而定！
Ⅵ 工業上用石英制備粗硅的反應為(SiO2+2C====Si+2CO↑)若的到28g硅,需要多少g碳
硅是不是相對原子質量是28啊？如果是
根據摩爾守恆定律
2mol碳即24g
Ⅶ 工業制粗硅的兩種方程式
我汗，你問的是一個方程式啊，電爐的目的就是高溫。
這個就是以石英砂（SIO2）和C為原料在礦熱爐（其中一個裝置就是電爐）中煉制粗硅：
SiO2+2C=Si(粗硅)+2CO
爐料的配置一般為石英砂100公斤，碳質還原劑（可以為石油焦、木炭）30~50公斤。
礦熱爐中的溫度能達到1800℃。
這是粗硅的精煉：
Si+3HCl=SiHCl3+H2
SiHCl3+H2=Si+3HCl
Ⅷ 工業制硅 碳要過量,不是會生成碳化硅嗎使製得的硅不純嗎
工業制硅
碳要過量，會生成你所說的碳化硅，但工業制硅是要提純的，會讓它與氯氣反應，生成四氯化硅，並且帶雜質四氯化碳，所以工業制硅還要經分餾提純，再用氫氣還原，得純度比較高的硅
Ⅸ 工業硅冶煉用不用松木炭
用不用木炭的前提取決於下列因素：
（1）如果你能取得比電阻高的還原劑，如含碳超過85%的蘭炭或灰分低於3%的洗精煤，如此，可不用木炭作為主要還原劑。
（2）如果你取得木炭的平均價格低於1500元/噸，則可用。
（3）你的硅石成分中K和Na的總和低於0.2%，機械性能差，則可用。
（4）如果你的電爐爐膛相對比較深且寬的則可用。
（5）如果你的產品是553不吹氧的，則應盡量少用，不然會虧本。
（6）如果你的爐外精煉技術OK，則單耗的標準是只要低於12000KW.h的話，可用洗精煤代替。
具體的說，需要看條件來做決定，是較理想的。其結果是優、較優、很優，但沒有100分，也沒有所謂的不及格，只有50步和100步之差別。
Ⅹ 一斤冶金硅需要多少二氧化硅和碳
解析：
SiO2+2C=高溫=Si+2CO
60----14--------28
m1----m2-------1
解得：m1=60/28=2.14(斤）
m2=0.5(斤）
答：一斤冶金硅需要2.14斤二氧化硅和0.5斤的碳。
