工業制氫化硅有哪些

A. sih4是什麼化學名稱

甲硅烷。

又名四氫化硅，化學式為SiH4，是一種硅烷。甲硅烷的結構與甲烷相似，呈正面體結構。

熔點：-185℃，沸點：-112℃，密度：1.114g/cm3，臨界溫度：-3.5℃，臨界壓力：4.864MPa

外觀：無色氣體，有大蒜氣味。溶解性：溶於水，幾乎不溶於乙醇、乙醚、苯、氯仿、硅氯仿和四氯化硅

硅烷的著火和爆炸都是與氧氣反應的結果。硅烷對氧和空氣極為敏感。具有一定濃度的硅烷在- 180℃的溫度下也會與氧發生爆炸反應。固體硅烷與液氧反應非常危險。

廣泛應用於電子工業、能源工業、玻璃工業、化學工業及高科技領域等多個行業和領域。

制備：

工業上，多晶塊狀硅首先在攝氏200度置於流床反應器下化合：硅與通入的氯化氫形成三氯硅烷和氫氣。反應式如下：Si + 3 HCl → HSiCl3+ H2。

將經過蒸餾純化的三氯化硅置於有催化劑的resinous bed反應器而產生歧化反應，形成硅烷和四氯化硅。反應式如下：4 HSiCl3→ SiH4+ 3 SiCl4。

以上內容參考：網路-甲硅烷

B. 四氫化硅的介紹

四氫化硅，無色氣體，有惡臭味。別名為硅烷、甲硅烷、單硅烷、硅甲烷。四氫化硅為有毒氣體，人體吸入後會造成頭暈、發熱、惡心，昏迷等症狀。

C. 多晶硅生產原理

冶金法
選擇純度較好的工業硅進行水平區熔單向凝固成硅錠，去除硅錠中金屬雜質聚集的部分和外表部分後，進行粗粉碎與清洗，在等離子體融解爐中去除硼雜質，再進行第二次水平區熔單向凝固成硅錠，去除第二次區熔硅錠中金屬雜質聚集的部分和外表部分，經粗粉碎與清洗後，在電子束融解爐中去除磷和碳雜質，直接生成太陽能級多晶硅。

流化床法
以四氯化硅、氫氣、氯化氫和工業硅為原料在流化床內高溫高壓下生成三氯氫硅，將三氯氫硅再進一步歧化加氫反應生成二氯二氫硅，繼而生成硅烷氣。 製得的硅烷氣通入加有小顆粒硅粉的流化床反應爐內進行連續熱分解反應，生成粒狀多晶硅產品。

硅烷法
硅烷是以四氯化硅氫化法、硅合金分解法、氫化物還原法、硅的直接氫化法等方法製取。然後將製得的硅烷氣提純後在熱分解爐生產純度較高的棒狀多晶硅。

改良西門子法
西門子法是用氯和氫合成氯化氫，氯化氫和工業硅粉在一定的溫度下合成三氯氫硅，然後對三氯氫硅進行分離精餾提純，提純後的三氯氫硅在氫還原爐內進行反應生產高純多晶硅。

D. 用硅怎麼樣製得四氫化硅 化學方程

最佳方法
Si與Mg反應生成Mg2Si，再與稀硫酸反應

E. 四氫化硅的空間結構

四氫化硅；
正四面體型分子式SiH4，俗稱硅烷，空間構型與甲烷(CH4)一樣都是正四面體結構，其電子式形成過程硅烷即硅與氫的化合物，是一系列化合物的總稱，包括甲硅烷(SiH4)、乙硅烷(Si2H6)和一些更高級的硅氫化合物，通式為SinH2n+2。其中，甲硅烷最為常見，有時也將甲硅烷簡稱為硅烷。

F. 請問有機硅是怎樣合成的有哪些合成原料

首先要知道什麼是有機硅化合物，有機硅化合物是分子中含有碳-硅鍵的有機化合物。重要的有機硅化合物有硅烷、硅氧烷和有機硅高分子硅烷的通式SinH2n+2。已知的有SiH4 、Si2H6、Si3H8、Si4H10、Si5H12和Si6H14六種直鏈的或支鏈的氫化硅。硅烷的熱穩定性隨著分子中硅原子的增多而迅速降低。SiH4和Si2H6在400℃時開始分解，Si4H10 在室溫時已明顯分解，Si6H14的分解速率更快。硅烷在空氣中能燃燒，生成SiO2和水；與鹵素單質作用生成鹵代硅烷；在催化劑存在下與鹵化氫作用生成鹵代物；硅烷能被水分解成SiO2和氫氣；硅烷與醇類反應生成硅酸酯。此外，硅烷在催化劑存在下還能與氯仿發生氫和氯的對換作用。 硅烷可由鹵化硅與氫化鋁鋰在乙醚中反應製取。硅烷中的甲硅烷較重要，它是熱分解法製取超級硅，生產半導體硅的原料。硅氧烷是含有結構的有機硅化合物，簡單的硅氧烷如下：硅氧烷可由有機鹵化硅烷水解而製得。它是聚硅氧烷的單體。