工业制氢化硅有哪些

A. sih4是什么化学名称

甲硅烷。

又名四氢化硅，化学式为SiH4，是一种硅烷。甲硅烷的结构与甲烷相似，呈正面体结构。

熔点：-185℃，沸点：-112℃，密度：1.114g/cm3，临界温度：-3.5℃，临界压力：4.864MPa

外观：无色气体，有大蒜气味。溶解性：溶于水，几乎不溶于乙醇、乙醚、苯、氯仿、硅氯仿和四氯化硅

硅烷的着火和爆炸都是与氧气反应的结果。硅烷对氧和空气极为敏感。具有一定浓度的硅烷在- 180℃的温度下也会与氧发生爆炸反应。固体硅烷与液氧反应非常危险。

广泛应用于电子工业、能源工业、玻璃工业、化学工业及高科技领域等多个行业和领域。

制备：

工业上，多晶块状硅首先在摄氏200度置于流床反应器下化合：硅与通入的氯化氢形成三氯硅烷和氢气。反应式如下：Si + 3 HCl → HSiCl3+ H2。

将经过蒸馏纯化的三氯化硅置于有催化剂的resinous bed反应器而产生歧化反应，形成硅烷和四氯化硅。反应式如下：4 HSiCl3→ SiH4+ 3 SiCl4。

以上内容参考：网络-甲硅烷

B. 四氢化硅的介绍

四氢化硅，无色气体，有恶臭味。别名为硅烷、甲硅烷、单硅烷、硅甲烷。四氢化硅为有毒气体，人体吸入后会造成头晕、发热、恶心，昏迷等症状。

C. 多晶硅生产原理

冶金法
选择纯度较好的工业硅进行水平区熔单向凝固成硅锭，去除硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分后，进行粗粉碎与清洗，在等离子体融解炉中去除硼杂质，再进行第二次水平区熔单向凝固成硅锭，去除第二次区熔硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分，经粗粉碎与清洗后，在电子束融解炉中去除磷和碳杂质，直接生成太阳能级多晶硅。

流化床法
以四氯化硅、氢气、氯化氢和工业硅为原料在流化床内高温高压下生成三氯氢硅，将三氯氢硅再进一步歧化加氢反应生成二氯二氢硅，继而生成硅烷气。 制得的硅烷气通入加有小颗粒硅粉的流化床反应炉内进行连续热分解反应，生成粒状多晶硅产品。

硅烷法
硅烷是以四氯化硅氢化法、硅合金分解法、氢化物还原法、硅的直接氢化法等方法制取。然后将制得的硅烷气提纯后在热分解炉生产纯度较高的棒状多晶硅。

改良西门子法
西门子法是用氯和氢合成氯化氢，氯化氢和工业硅粉在一定的温度下合成三氯氢硅，然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯，提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行反应生产高纯多晶硅。

D. 用硅怎么样制得四氢化硅 化学方程

最佳方法
Si与Mg反应生成Mg2Si，再与稀硫酸反应

E. 四氢化硅的空间结构

四氢化硅；
正四面体型分子式SiH4，俗称硅烷，空间构型与甲烷(CH4)一样都是正四面体结构，其电子式形成过程硅烷即硅与氢的化合物，是一系列化合物的总称，包括甲硅烷(SiH4)、乙硅烷(Si2H6)和一些更高级的硅氢化合物，通式为SinH2n+2。其中，甲硅烷最为常见，有时也将甲硅烷简称为硅烷。

F. 请问有机硅是怎样合成的有哪些合成原料

首先要知道什么是有机硅化合物，有机硅化合物是分子中含有碳-硅键的有机化合物。重要的有机硅化合物有硅烷、硅氧烷和有机硅高分子硅烷的通式SinH2n+2。已知的有SiH4 、Si2H6、Si3H8、Si4H10、Si5H12和Si6H14六种直链的或支链的氢化硅。硅烷的热稳定性随着分子中硅原子的增多而迅速降低。SiH4和Si2H6在400℃时开始分解，Si4H10 在室温时已明显分解，Si6H14的分解速率更快。硅烷在空气中能燃烧，生成SiO2和水；与卤素单质作用生成卤代硅烷；在催化剂存在下与卤化氢作用生成卤代物；硅烷能被水分解成SiO2和氢气；硅烷与醇类反应生成硅酸酯。此外，硅烷在催化剂存在下还能与氯仿发生氢和氯的对换作用。 硅烷可由卤化硅与氢化铝锂在乙醚中反应制取。硅烷中的甲硅烷较重要，它是热分解法制取超级硅，生产半导体硅的原料。硅氧烷是含有结构的有机硅化合物，简单的硅氧烷如下：硅氧烷可由有机卤化硅烷水解而制得。它是聚硅氧烷的单体。